Другий (магістерський) рівень

Permanent URI for this collection

https://dspace.kntu.kr.ua/handle/123456789/11412

Browse

Browsing Другий (магістерський) рівень by Subject "cathodic sputtering"

Now showing 1 - 1 of 1
  • Thumbnail Image
    Item
    Автоматизація регулювання товщини плівки в процесі осадження в умовах вакууму
    (ЦНТУ, 2021-12-21) Глущенко, Тарас Олексійович; Hlushchenko, Taras
    В даній випускній кваліфікаційній роботі розглядається оптимізація процесів нанесення полімерних плівок. Охарактеризовані принципи нанесення полімерних плівок та методика осадження тонких плівок у вакуумі. З аналізу основних методів встановлено, що найбільш ефективним для надвисокого вакууму є метод катодного розпилення. Розглянуто і детально проаналізовано метод вимірювання товщини плівки кварцовим датчиком. Який забезпечує точність вимірювання до сьомого знаку з похибкою 2%. Заміна старого контролеру товщини плівки на сучасний, більш продуктивний новий контролер на базі процесору ATmega103 дозволила більш точно вимірювати товщину плівки, зменшити час регулювання та перерегулювання. Проведено кореляційно-регресивний аналіз статистичних даних. Знайдено функціональний зв’язок між товщиною плівки і положенням заслінки. Обчислено рівняння регресії та визначено коефіцієнт кореляції. Істотність функціонального зв’язку підтверджено за допомогою критеріїв Стьюдента та Фішера. Розроблена структурна та функціональна схеми САР товщини плівки. Визначені та покращенні якісні показники стійкості системи за допомогою синтезу коректуючого пристрою. This final qualification work considers the optimization of polymer film application processes. The principles of application of polymer films and the method of deposition of thin films in a vacuum are characterized. From the analysis of the main methods, it was established that the most effective method for ultra-high vacuum is the cathodic sputtering method. The method of measuring film thickness with a quartz sensor is considered and analyzed in detail. Which provides measurement accuracy to the seventh digit with an error of 2%. Replacing the old film thickness controller with a modern, more productive new controller based on the ATmega103 processor made it possible to measure the film thickness more accurately, reduce adjustment and re-adjustment time. Correlation-regression analysis of statistical data was carried out. A functional relationship between the thickness of the film and the position of the shutter was found. The regression equation was calculated and the correlation coefficient was determined. The significance of the functional relationship was confirmed using Student's and Fisher's tests. The structural and functional schemes of SAR of the film thickness were developed. Qualitative indicators of system stability were determined and improved using the synthesis of a corrective device.